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Microscopía de campo cercano: Aplicación al estudio del confinamiento y propagación de carga superficial en estructuras semiconductoras

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dc.contributor RICARDO CASTRO GARCIA;48593 es_MX
dc.contributor LUIS FELIPE LASTRAS MARTINEZ;13673 es_MX
dc.contributor.advisor Castro García, Ricardo
dc.contributor.advisor Lastras Martínez, Luis Felipe.
dc.contributor.author Espinoza Cuellar, Luis David
dc.coverage.spatial México. San Luis Potosí. San Luis Potosí. es_MX
dc.creator Luis David Espinosa Cuellar;0000-0002-9335-2552 es_MX
dc.date.accessioned 2022-10-17T18:38:52Z
dc.date.available 2022-10-17T18:38:52Z
dc.date.issued 2019
dc.identifier.uri https://repositorioinstitucional.uaslp.mx/xmlui/handle/i/7991
dc.description.abstract En este trabajo se presenta el estudio del confinamiento y propagación de carga superficial estudiado sobre estructuras basadas en InP (001) altamente dopado. De manera especifica, lo que se estudió fue la respuesta asociada a InP, conformada por muestras compuestas por la siguiente estructura: a un sustrato de InP dopado con azufre, se le creció una rejilla de difracción de InP altamente dopado con atomos de silicio. La rejilla de difracción tiene el propósito de que por la ley de Bragg, la luz de iluminación tenga el momento necesario para poder excitar los plasmones superficiales en el infrarrojo. En lo que respecta a este trabajo, se extendio el estudio de la respuesta de dicha carga superficial con la tecnica de microscopia en campo cercano, utilizando laseres con longitud de onda de 407 nm, 532 nm y 633 nm. De los resultados experimentales obtenidos en la region visible mediante NSOM, se especula que es posible obtener una respuesta igualmente plasmónica asociada a las cargas libres superficiales en la estructura. es_MX
dc.description.statementofresponsibility Investigadores es_MX
dc.description.statementofresponsibility Estudiantes es_MX
dc.language Español es_MX
dc.publisher Facultad de Ciencias - UASLP
dc.relation.ispartof REPOSITORIO NACIONAL CONACYT es_MX
dc.rights Acceso Abierto es_MX
dc.rights.uri http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0 es_MX
dc.subject estructuras basadas en InP es_MX
dc.subject microscopía de campo cercano es_MX
dc.subject.other CIENCIAS FÍSICO MATEMATICAS Y CIENCIAS DE LA TIERRA es_MX
dc.subject.other INGENIERÍA Y TECNOLOGÍA es_MX
dc.title Microscopía de campo cercano: Aplicación al estudio del confinamiento y propagación de carga superficial en estructuras semiconductoras es_MX
dc.type Tesis de Maestría es_MX
dc.degree.name Maestría en Ciencias Aplicadas es_MX
dc.degree.department Facultad de Ciencias es_MX


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